【高清视频】新型储存技术动辄几百万次擦除次数,业内是如何加速测试的?

我们前不久和客户做了一个技术交流,发现针对传统的NOR Flash仍旧停留在40nm工业,已经完全跟不上MCU工艺的发展(20nm),那么现在市场上有一些不同的技术路线,将传统的嵌入式NOR Flash的技术改进后可以融合进入MCU的内部工艺一起流片,例如一些3D-NOR FLASH技术的演进。
同时,针对市场上各类新型非易失性存储技术,即NVM(non-volatile memory),主要是FeRAM(也称为FRAM), MRAM, ReRAM (也称为RRAM),PCM(例如intel之前搞了15年的Optane/3D X-Point技术为代表),还有一些压磁技术PM-RAM,这些新技术克服了NAND FLASH的erase擦除次数的限制,普遍都可以达到几百万次擦除次数,甚至上亿次,这给这些新技术的预演、研发、验证和测试,尤其是验证和测试阶段带来了极大的挑战,如何快速测试成为了摆在所有从事此类技术研发的人的面前。
我们邀请的NplusT公司的CEO做的针对该类新型NVM测试的大概30分钟的高清技术交流视频,就是告诉你将该类验证如何从几十天缩短到几小时,从几十小时缩短到几分钟,从而可以大大加速科研,以及产品推出市场的时间。
【高清视频】新型储存技术动辄几百万次擦除次数,业内是如何加速测试的?
另外,今天的文章也在总结上述视频内容的基础上,讲解一下全球范围内上述4大类NVM技术以及代表的公司、发表的论文、研究的最新成果。
下面的文字总结分为三大部分:
1️⃣ 视频内容核心总结(TestMesh与3D-NOR/NVM测试)
2️⃣ TestMesh技术体系与工程意义
3️⃣ 全球四大类新型NVM技术(FeRAM / MRAM / ReRAM / PCM)的产业与研究进展
一、视频核心内容总结(TestMesh平台与NVM测试)
本视频由 意大利公司 NPlusT CEO Tamás 介绍其 TestMesh 非易失性存储测试平台。
视频的核心目的不是仅针对 3D NOR Flash,而是面向广泛的下一代非易失性存储(NVM)研发测试。
其主要目标用户:
- 大学研究机构
- 国家研究院
- 半导体公司
- IDM / Foundry
- 存储芯片初创企业
例如合作客户包括:
- Tower Semiconductor
- STMicroelectronics
- Infineon 等。
这些机构正在研发:
- 新型 NVM 存储单元
- memory array
- neuromorphic computing memory
- in-memory computing
二、TestMesh测试平台的核心技术思想
1 TestMesh定位:工程研发测试系统
TestMesh不是生产测试ATE(当然,可以结合客户需要定制开发ATE),而是工程研发测试系统。
目标是:
- 提高研究效率
- 快速进行存储器物理特性研究
- 加速技术迭代
系统理念:
一体化测试平台(All-in-one instrument) 工程师开箱即可使用。
2 为什么需要这种设备
在新型存储研发中,测试往往是瓶颈。
例如:
一个简单循环:
- 选定 cell
- 施加写入脉冲
- 读出状态
- 再次施加脉冲
- 重复
当进行:
- endurance test
- cycling test
- retention test
时可能需要:
百万级循环。
如果:
- 每个pulse耗时1ms
- 1K array
- 1M cycles
测试可能需要:
几个月时间。
3 TestMesh的关键优势
(1)超高速测试
案例:
STMicroelectronics
传统方案:
- Keithley + 测试脚本
- 测试时间:43小时
TestMesh:
- 3分钟
性能提升:
9000倍。
(2)硬件内执行算法
传统方案:
PC↓仪器↓测量↓PC分析
TestMesh:
硬件内部执行算法硬件直接给出结果
例如:
- 是否达到电平 → 1bit结果
减少:
- 数据传输
- 软件处理
(3)低延迟通信
内部通信:
PCIe高速总线
特点:
- 低延迟
- 高带宽
- 全同步资源。
(4)模块化架构
TestMesh是一个平台:
四种主要配置:
|
型号 |
用途 |
|---|---|
|
TMS |
单个cell测试 |
|
TMA |
小型array |
|
TMC |
crossbar array / in-memory computing |
|
TMY |
带数字接口的完整memory |
(5)扩展单元
可扩展:
- 高电压(>12V)
- 高IO
- 近端电流检测
例如:
NAND test chip 需要:
30V programming voltage。
三、为什么3D-NOR和各类NVM测试需要这种设备
NOR Flash目前:
- 很多仍停留在 40nm工艺节点
但新趋势:
3D-NOR
特点:
- 高密度
- cross-point结构
- 新材料
研发过程中需要:
- cycling test
- reliability test
- disturb test
- program algorithm optimization
TestMesh就是为这些场景设计。
四、全球四大类新型NVM技术
目前业界公认最重要的四类NVM技术:
|
技术 |
全称 |
|---|---|
|
FeRAM |
Ferroelectric RAM |
|
MRAM |
Magnetoresistive RAM |
|
ReRAM |
Resistive RAM |
|
PCM |
Phase Change Memory |
它们是:
下一代非易失性存储核心候选技术。
原因:
传统存储的瓶颈:
|
技术 |
问题 |
|---|---|
|
DRAM |
需要refresh |
|
NAND |
写入慢 |
|
NOR |
密度低 |
五、FeRAM(FRAM)
原理
利用:
铁电材料极化状态
来存储0/1。
典型材料:
- HfO2
- PZT
特点:
- 写入速度快
- 超低功耗
- 高耐久
代表公司
- Texas Instruments
- Fujitsu
- Cypress(Infineon)
- Renesas
最新研究方向
近几年热点:
FeFET
铁电晶体管:
- HfO2 ferroelectric
优势:
- 可集成CMOS
- 用于AI加速器
2025研究表明:
FeRAM可以用于
logic-in-memory计算。
六、MRAM
MRAM利用:
磁隧道结(MTJ)
结构:
FerromagnetTunnel barrierFerromagnet
存储:
磁化方向。
MRAM类型
|
技术 |
特点 |
|---|---|
|
Toggle MRAM |
早期 |
|
STT-MRAM |
主流 |
|
SOT-MRAM |
下一代 |
代表公司
- Samsung
- TSMC(embedded MRAM)
- Everspin
- Avalanche Technology
最新研究
二维材料MRAM:
利用:
- spin-orbit torque
- van der Waals heterostructure
可实现:
低功耗高速写入。
七、ReRAM / RRAM
ReRAM又叫:
Memristor
存储原理:
氧空位导电通道。
MetalOxideMetal
电压改变:
- filament形成
- filament断裂
优点
- 超高密度
- crossbar array
- neuromorphic computing
代表公司
- Crossbar
- Weebit Nano
- SK hynix
- Panasonic
最新研究
2025研究:
HfO2 forming-free ReRAM
实现:
- 多bit存储
- 低功耗
- 更稳定。
八、PCM(Phase Change Memory)
PCM原理:
利用材料:
GeSbTe
在:
- crystalline
- amorphous
之间切换。
代表技术
Intel + Micron:
3D XPoint
产品:
- Optane SSD
- Optane DIMM
但:
2022 Intel停止Optane。
研究仍在继续
例如:
AI优化写入算法:
可降低:
63%写入能耗。
九、新型NVM市场趋势
目前市场:
高速增长。
驱动力:
- AI
- HPC
- edge computing
全球主要厂商:
- Samsung
- Intel
- Micron
- SK hynix
- Western Digital。
预计:
新型NVM市场
2030规模:
超过百亿美元级。
十、为什么TestMesh对这些技术很关键
新型存储研发需要:
测试类型:
|
测试 |
目的 |
|---|---|
|
IV curve |
材料特性 |
|
endurance |
寿命 |
|
retention |
保持时间 |
|
disturb |
干扰 |
|
switching speed |
写入速度 |
而这些测试:
需要
大量循环 + 高精度电流检测。
TestMesh的定位就是:
新型存储研发阶段的核心表征设备
比传统的Keysight B1500和Keithley SMU测试速度提高了几个数量级,主要定位是针对 memory array算法测试优化。
更多关于NVM测试技术和产品的内容,请参见下面白皮书的Chapter 7.2章节。
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