我们前不久和客户做了一个技术交流,发现针对传统的NOR Flash仍旧停留在40nm工业,已经完全跟不上MCU工艺的发展(20nm),那么现在市场上有一些不同的技术路线,将传统的嵌入式NOR Flash的技术改进后可以融合进入MCU的内部工艺一起流片,例如一些3D-NOR FLASH技术的演进。

同时,针对市场上各类新型非易失性存储技术,即NVM(non-volatile memory),主要是FeRAM(也称为FRAM), MRAM, ReRAM (也称为RRAM),PCM(例如intel之前搞了15年的Optane/3D X-Point技术为代表),还有一些压磁技术PM-RAM,这些新技术克服了NAND FLASH的erase擦除次数的限制,普遍都可以达到几百万次擦除次数,甚至上亿次,这给这些新技术的预演、研发、验证和测试,尤其是验证和测试阶段带来了极大的挑战,如何快速测试成为了摆在所有从事此类技术研发的人的面前。

我们邀请的NplusT公司的CEO做的针对该类新型NVM测试的大概30分钟的高清技术交流视频,就是告诉你将该类验证如何从几十天缩短到几小时,从几十小时缩短到几分钟,从而可以大大加速科研,以及产品推出市场的时间。

【高清视频】新型储存技术动辄几百万次擦除次数,业内是如何加速测试的?

另外,今天的文章也在总结上述视频内容的基础上,讲解一下全球范围内上述4大类NVM技术以及代表的公司、发表的论文、研究的最新成果。

下面的文字总结分为三大部分:

1️⃣ 视频内容核心总结(TestMesh与3D-NOR/NVM测试) 

2️⃣ TestMesh技术体系与工程意义 

3️⃣ 全球四大类新型NVM技术(FeRAM / MRAM / ReRAM / PCM)的产业与研究进展


一、视频核心内容总结(TestMesh平台与NVM测试)

本视频由 意大利公司 NPlusT CEO Tamás 介绍其 TestMesh 非易失性存储测试平台

视频的核心目的不是仅针对 3D NOR Flash,而是面向广泛的下一代非易失性存储(NVM)研发测试

其主要目标用户:

  • 大学研究机构
  • 国家研究院
  • 半导体公司
  • IDM / Foundry
  • 存储芯片初创企业

例如合作客户包括:

  • Tower Semiconductor
  • STMicroelectronics
  • Infineon 等。

这些机构正在研发:

  • 新型 NVM 存储单元
  • memory array
  • neuromorphic computing memory
  • in-memory computing

二、TestMesh测试平台的核心技术思想

1 TestMesh定位:工程研发测试系统

TestMesh不是生产测试ATE(当然,可以结合客户需要定制开发ATE),而是工程研发测试系统

目标是:

  • 提高研究效率
  • 快速进行存储器物理特性研究
  • 加速技术迭代

系统理念:

一体化测试平台(All-in-one instrument) 工程师开箱即可使用。


2 为什么需要这种设备

在新型存储研发中,测试往往是瓶颈

例如:

一个简单循环:

  1. 选定 cell
  2. 施加写入脉冲
  3. 读出状态
  4. 再次施加脉冲
  5. 重复

当进行:

  • endurance test
  • cycling test
  • retention test

时可能需要:

百万级循环

如果:

  • 每个pulse耗时1ms
  • 1K array
  • 1M cycles

测试可能需要:

几个月时间


3 TestMesh的关键优势

(1)超高速测试

案例:

STMicroelectronics

传统方案:

  • Keithley + 测试脚本
  • 测试时间:43小时

TestMesh:

  • 3分钟

性能提升:

9000倍


(2)硬件内执行算法

传统方案:


  1. PC
  2. 仪器
  3. 测量
  4. PC分析

TestMesh:


  1. 硬件内部执行算法
  2. 硬件直接给出结果

例如:

  • 是否达到电平 → 1bit结果

减少:

  • 数据传输
  • 软件处理

(3)低延迟通信

内部通信:

PCIe高速总线

特点:

  • 低延迟
  • 高带宽
  • 全同步资源。

(4)模块化架构

TestMesh是一个平台:

四种主要配置:

型号

用途

TMS

单个cell测试

TMA

小型array

TMC

crossbar array / in-memory computing

TMY

带数字接口的完整memory


(5)扩展单元

可扩展:

  • 高电压(>12V)
  • 高IO
  • 近端电流检测

例如:

NAND test chip 需要:

30V programming voltage。


三、为什么3D-NOR和各类NVM测试需要这种设备

NOR Flash目前:

  • 很多仍停留在 40nm工艺节点

但新趋势:

3D-NOR

特点:

  • 高密度
  • cross-point结构
  • 新材料

研发过程中需要:

  • cycling test
  • reliability test
  • disturb test
  • program algorithm optimization

TestMesh就是为这些场景设计。


四、全球四大类新型NVM技术

目前业界公认最重要的四类NVM技术:

技术

全称

FeRAM

Ferroelectric RAM

MRAM

Magnetoresistive RAM

ReRAM

Resistive RAM

PCM

Phase Change Memory

它们是:

下一代非易失性存储核心候选技术

原因:

传统存储的瓶颈:

技术

问题

DRAM

需要refresh

NAND

写入慢

NOR

密度低


五、FeRAM(FRAM)

原理

利用:

铁电材料极化状态

来存储0/1。

典型材料:

  • HfO2
  • PZT

特点:

  • 写入速度快
  • 超低功耗
  • 高耐久

代表公司

  • Texas Instruments
  • Fujitsu
  • Cypress(Infineon)
  • Renesas

最新研究方向

近几年热点:

FeFET

铁电晶体管:

  • HfO2 ferroelectric

优势:

  • 可集成CMOS
  • 用于AI加速器

2025研究表明:

FeRAM可以用于

logic-in-memory计算


六、MRAM

MRAM利用:

磁隧道结(MTJ)

结构:


  1. Ferromagnet
  2. Tunnel barrier
  3. Ferromagnet

存储:

磁化方向。


MRAM类型

技术

特点

Toggle MRAM

早期

STT-MRAM

主流

SOT-MRAM

下一代


代表公司

  • Samsung
  • TSMC(embedded MRAM)
  • Everspin
  • Avalanche Technology

最新研究

二维材料MRAM:

利用:

  • spin-orbit torque
  • van der Waals heterostructure

可实现:

低功耗高速写入。


七、ReRAM / RRAM

ReRAM又叫:

Memristor

存储原理:

氧空位导电通道。


  1. Metal
  2. Oxide
  3. Metal

电压改变:

  • filament形成
  • filament断裂

优点

  • 超高密度
  • crossbar array
  • neuromorphic computing

代表公司

  • Crossbar
  • Weebit Nano
  • SK hynix
  • Panasonic

最新研究

2025研究:

HfO2 forming-free ReRAM

实现:

  • 多bit存储
  • 低功耗
  • 更稳定。

八、PCM(Phase Change Memory)

PCM原理:

利用材料:

GeSbTe

在:

  • crystalline
  • amorphous

之间切换。


代表技术

Intel + Micron:

3D XPoint

产品:

  • Optane SSD
  • Optane DIMM

但:

2022 Intel停止Optane。


研究仍在继续

例如:

AI优化写入算法:

可降低:

63%写入能耗


九、新型NVM市场趋势

目前市场:

高速增长。

驱动力:

  • AI
  • HPC
  • edge computing

全球主要厂商:

  • Samsung
  • Intel
  • Micron
  • SK hynix
  • Western Digital。

预计:

新型NVM市场

2030规模:

超过百亿美元级


十、为什么TestMesh对这些技术很关键

新型存储研发需要:

测试类型:

测试

目的

IV curve

材料特性

endurance

寿命

retention

保持时间

disturb

干扰

switching speed

写入速度

而这些测试:

需要

大量循环 + 高精度电流检测

TestMesh的定位就是:


  1. 新型存储研发阶段的
  2. 核心表征设备

比传统的Keysight B1500和Keithley SMU测试速度提高了几个数量级,主要定位是针对 memory array算法测试优化

更多关于NVM测试技术和产品的内容,请参见下面白皮书的Chapter 7.2章节。

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